Materialul țintă are o piață largă, o varietate de utilizări utile și un viitor promițător. Să trecem rapid peste cerințele de performanță primare ale materialului țintă pentru dvs., astfel încât să puteți înțelege mai bine performanța materialului. Sper din tot sufletul să vă fie de folos.
Puritatea: Deoarece puritatea țintei are un impact semnificativ asupra performanței filmului, puritatea este una dintre principalele măsuri de performanță ale țintei. Criteriile de puritate ale materialului țintă diferă totuși în aplicațiile practice. De exemplu, dimensiunea siliciului napolitanele a crescut de la 6′′, 8′′ la 12′′ datorită expansiunii rapide a industriei microelectronice, iar lățimea cablajului a trecut de la 0.5um la 0.25um, 0 .18um, sau chiar 0.13um, anterior 99. Puritatea țintă de 995% poate satisface cerințele procedurii 0.35umIC, în timp ce 99 este necesar pentru a pregăti 0.18um linie.99.9999% sau chiar 999%.
Conținutul de impurități: Principalele surse de poluare pentru pelicula depusă sunt impuritățile din solidul țintă și oxigenul și vaporii de apă din pori. țintele variate din diverse motive necesită conținuturi variate de impurități. De exemplu, sectorul semiconductorilor are standarde specifice pentru concentrația de elemente radioactive și metale alcaline în ținte din aluminiu pur și aliaje de aluminiu.
Densitate: Materialul țintă este de obicei necesar să aibă o densitate mai mare pentru a reduce porii din solid și pentru a crește funcționalitatea filmului pulverizat. Caracteristicile electrice și optice ale filmului sunt, de asemenea, afectate de densitatea materialului țintă, în plus față de rata de pulverizare. Performanța filmului crește odată cu densitatea țintă. Capacitatea materialului țintă de a supraviețui stresului termic în timpul procesului de sputtering este, de asemenea, îmbunătățită prin creșterea densității și rezistenței sale. Una dintre măsurile majore de performanță ale țintei este densitatea.
