Vanadiul este un metal gri-argintiu cu o densitate de 6,11 g/cm3și un punct de topire de 1919±2 grade . Este un metal rar cu un punct de topire ridicat. În producția de circuite integrate, aurul pur este în general folosit ca strat conductiv de suprafață, dar plachetele de aur și siliciu sunt predispuse să genereze compuși AuSi cu punct de topire scăzut, rezultând o legătură slabă între interfețele de aur și siliciu.
Prin urmare, se adaugă un strat de lipire la suprafața plachetelor de aur și siliciu. Nichelul pur este adesea folosit ca strat de legătură, dar difuzia se va forma și între stratul de nichel și stratul conductor de aur. Prin urmare, este necesar un strat de barieră pentru a preveni difuzia între stratul conductiv de aur și stratul de legătură cu nichel.
Stratul de barieră trebuie să utilizeze un metal cu un punct de topire ridicat și trebuie să reziste la o densitate mare de curent. Vanadiul de înaltă puritate poate îndeplini această cerință. Vanadiul de înaltă puritate are, de asemenea, o plasticitate bună și poate fi rulat în foi, folii și tras în fire la temperatura camerei.
Procesul de preparare a țintei de vanadiu
1. Tăiați lingoul de vanadiu de puritate necesar în funcție de dimensiunea țintă folosind o mașină de tăiat orizontală, preîncălziți la 450-500 grade, apoi forjați și controlați rata totală de deformare a forjarii la 70-80%;
2. Recoaceți lingoul de vanadiu forjat la o temperatură de 400-500 grade și un timp de menținere de 60-120min, apoi răciți-l prin răcire cu aer;
3. Rotiți lingoul de vanadiu recoapt și controlați cantitatea de apăsare a fiecărei treceri la 0.5-1mm și controlați deformarea totală la 70-80%, până la obturatorul țintă de vanadiu al se obține diametrul și grosimea necesar;
4. Recoaceți din nou semifabricatul țintă de vanadiu laminat la o temperatură de 450 grade -550 grade și un timp de menținere de 90-150min. După recoacere din nou, se răcește cu apă pentru a obține semifabricatul țintă de vanadiu de înaltă puritate.
În plus față de țintele de vanadiu, putem furniza și ținte de pulverizare ca aliaj de nichel-vanadiu, aliaj de cobalt-vanadiu, aliaj de titan-aluminiu-vanadiu, aliaj de fier-vanadiu-germaniu, aliaj de cobalt-fier-vanadiu-siliciu și pentoxid de vanadiu. .
