Ținte de pulverizare cu tungsten titan

Ținte de pulverizare cu tungsten titan:

Țintele noastre pentru pulverizare cu tungsten și titan sunt produse folosind tehnici de ultimă oră de fabricație metalurgică a pulberilor. Oferim ținte de pulverizare WTi într-o gamă de dimensiuni, până la 400 de milimetri în diametru. Suntem printre primii producători care au creat WTi atât ca țintă rotativă, cât și ca țintă plană. Conținutul de titan al țintelor noastre WTi este de obicei de 10% din greutate.

Ținte de pulverizare tungsten-titan

Aliaj tungsten-titan

Domenii de aplicare pentru wolfram-titan:
Tungsten-titan (WTi), care conține 10% titan în greutate, este folosit ca adeziv de metalizare și barieră de difuzie în microcipuri. În acest caz, WTi este folosit pentru a separa straturile de metalizare și semiconductoare, cum ar fi cuprul de siliciu sau aluminiul de siliciu. Fără bariere de difuzie, siliciul și cuprul s-ar combina pentru a crea o fază intermetală în microcipuri, care ar compromite performanța semiconductorului. Un strat de barieră WTi este utilizat în celulele solare flexibile cu peliculă subțire (CIGS) pentru a opri difuzarea ionilor de fier prin contactul din spate cu molibden și în semiconductor. Eficiența celulelor solare CIGS poate fi redusă foarte mult cu doar câteva g/g de fier.

a.Metalurgia pulberilor este utilizată pentru a crea ținte de pulverizare cu tungsten și titan, care sunt utilizate pe scară largă în fabricarea de semiconductori și celule solare cu peliculă subțire.

b.WTi10wt% film subțire este utilizat în aplicații de semiconductor ca strat de aderență și barieră de difuzie pentru a izola straturile de metalizare de semiconductor, cum ar fi cuprul sau aluminiul de siliciu. Ca rezultat, funcția tranzistorului în microcipuri poate fi mult îmbunătățită.

c.WTi10wt% film subțire este, de asemenea, utilizat în celulele solare cu film subțire ca strat de barieră pentru a împiedica difuzarea ionilor de fier de pe substratul de oțel la contactul din spate cu molibden și semiconductorul CIGS. Țintele din titan tungsten sunt, de asemenea, folosite pentru a acoperi instrumentele și LED-urile .

În cele două figuri, o metalizare a semiconductoarelor flip-chip folosind straturi WTi este prezentată sub construcția schematică a unei celule solare CIGS din stânga.

Calitatea stratului crește odată cu puritatea substanței de acoperire. Pentru a asigura cel mai mare nivel de puritate a materialului, folosim doar cea mai pură pulbere și o amestecăm în propriile noastre instalații încă de la început. De la pulbere la produsul finit, urmărim îndeaproape fiecare etapă pentru a ne asigura că numai ținte cu densitatea precisă garantată, puritatea și o microstructură omogenă părăsesc instalația noastră.

Fabrica noastră este capabilă să producă ținte cu WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% și ținte de pulverizare cu tungsten și titan cu compoziție specială care pot fi personalizate. Densitatea țintelor reale este > 99%, iar dimensiunea tipică a granulelor este de 100um. Utilizatorii finali pot obține rate constante de eroziune și o puritate ridicată și o acoperire cu peliculă subțire omogenă în timpul procesului PVD cu puritate de până la 4N5 și tratament special de recoacere, dimensiune uniformă a granulelor și conținut redus de gaz.

Dacă aveți orice nevoie sau întrebări, vă rugăm să nu ezitați să ne contactați.

 

 

CONTACTAŢI-NE

Director de vânzări:

Contact: Li Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

Tel: 13379388917

Fax: 0917-3139100

Cod poștal: 721013

Site: https://www.tantalumysjs.com/

Adăugați: Zona industrială a satului Wenquan, Zona de dezvoltare Gaoxin, orașul Baoji, provincia Shaanxi, China

Tag-uri populare: ținte de pulverizare cu tungsten titan, furnizori, producători, fabrică, personalizate, cumpărare, preț, cotație, calitate, vânzare, în stoc